近日，无锡市中级人民法院发布无锡中院半导体产业知识产权司法保护典型案例，滨湖法院民二庭一审审理的“提前多点多面布局，实现知产立体保护”入选，本案是入选案例中唯一基层法院一审判决，二审维持的涉半导体案件。

提前多点多面布局，实现知产立体保护

基本案情

原告集某电子科技有限公司系作品名称为“6寸17点RTD Wafer产品图”的著作权人，并就此办理了著作权登记手续。该产品图显示晶圆上分为内外两圈，外圈8个焊点、内圈8个焊点，焊点位置分布均匀，两圈左侧焊点未连接，以环状物连接，在带状的薄电偶上印有红色的小图标和文字，小图标为集某公司注册的图形商标。

原告在无锡参与第十一届中国半导体设备年会暨半导体设备与核心部件展示会期间，发现同为参展商的被告和某光电科技股份有限公司将前述晶圆传感器图片用于制作展板及宣传册，原告认为被告行为侵害其著作权，故诉至法院。

诉讼中，被告称被诉侵权图片为其员工在网络上进行下载，用于其产品的辅助说明。本案历经一、二审，法院认定原告对涉案图片享有著作权并予以公开使用，被告在参会上使用的被诉侵权图片与涉案图片构成实质性相似，且双方属于同业经营者。根据著作权侵权“接触”和“实质性相似”的认定原则，认定被告侵害了原告涉案图片著作权，最终判决被告停止侵权并赔偿原告经济损失及合理费用。

半导体企业在生产经营中不仅要注重专利、集成电路布图设计等技术类知识产权的创新和维护，而且还应着眼于著作权、商标等其他非技术类知识产权的规划和布局。

本案原告在经营中生产晶圆传感器产品，其及时将拍摄的相应产品图片办理了著作权登记，并获得相应的登记证书，从而可以著作权人的身份提起诉讼，开展维权。

本案案情虽不复杂，审理难度不大，但本案判决提示企业要有知识产权布局和谋划意识，只有综合运用专利权、商标权、著作权、商业秘密、集成电路布图设计专有权等多种手段强化保护，才能有效推进知识产权全方位保护，从各方面无疏漏地维护其合法权益。

该案同时警示企业宣传中随意使用互联网或公开渠道搜集的图片、文字等，均存在侵犯著作权的风险，应当引以为戒，进一步强化知识产权侵权风险防范意识，规避知识产权侵权带来的负面影响。